成果名称：大口径高阈值光栅制造技术
专利名称：
1、一种熔石英表面处理的装置及方法（专利号：ZL201510275557.0）
2、一种变间距光栅的近场全息-离子束刻蚀制备方法（专利号： ZL201510988326.4）
3、一种光栅掩模与硅片{111}晶面的对准方法（专利号：ZL201510793828.1）
4、具有高衍射效率的大口径薄膜衍射元件的制作方法（专利号：ZL201610688679.7）
5、一种用于强激光系统中具有亚波长光栅减反结构的光束采样光栅（专利号：ZL201720561886.6）
专有技术名称：
6、大口径光栅刻蚀技术
7、大口径光栅综合清洗技术
归属方：中国科学技术大学
合作方：陈火耀
成果转化方式：新设公司（名称暂未定），作价入股
作价入股评估金额：约人民币700.19万元
技术团队成员：洪义麟（占技术团队收益比例26%）、付绍军（占技术团队收益比例26%）、邱克强（占技术团队收益比例15%）、刘正坤（占技术团队收益比例15%）、徐向东（占技术团队收益比例9%）、刘颖（占技术团队收益比例9%）。
公示期：2020年1月22日-2020年2月5日
如有异议，请在公示期与科技成果转移转化办公室联系：
联系电话:0551-63601952；邮件：iamjs359@ustc.edu.cn
科技成果转移转化办公室
2020.01.21