成果名称：大口径高阈值光栅制造技术
专利名称：
1、一种熔石英表面处理的装置及方法（专利号：ZL201510275557.0）
2、一种变间距光栅的近场全息-离子束刻蚀制备方法（专利号： ZL201510988326.4）
3、一种光栅掩模与硅片{111}晶面的对准方法（专利号：ZL201510793828.1）
4、一种等离子体刻蚀装置及其扩散装置（专利号：ZL201920083740.4）
5、一种用于强激光系统中具有亚波长光栅减反结构的光束采样光栅（专利号：ZL201720561886.6）
专有技术名称：
6、大口径光栅刻蚀技术
7、大口径光栅综合清洗技术
归属方：中国科学技术大学
合作方：陈火耀（出资500万元）
关联交易情况：合作方陈火耀于2015年至今在中国科学技术大学国家同步辐射实验室（技术团队成员洪义麟课题组）从事博士后研究， 并且与技术团队成员付绍军为师生关系；合作方陈火耀为作价入股所涉及的专利“一种变间距光栅的近场全息-离子束刻蚀制备方法（专利号： ZL201510988326.4）”和“一种用于强激光系统中具有亚波长光栅减反结构的光束采样光栅（专利号：ZL201720561886.6）”的发明人
成果转化方式：新设公司（名称暂未定），作价入股
作价入股评估金额：约人民币700.14万元
技术团队成员：洪义麟（占技术团队收益比例26%）、付绍军（占技术团队收益比例26%）、邱克强（占技术团队收益比例15%）、刘正坤（占技术团队收益比例15%）、徐向东（占技术团队收益比例9%）、刘颖（占技术团队收益比例9%）
技术团队声明：陈火耀已承诺自愿放弃上述专利的收益权，陈火耀和技术团队成员承诺该技术作价入股行为不存在非法利益输送问题（见附件《中国科学技术大学关联交易承诺函》）
公示期：2020年4月14日-2020年4月28日
如有异议，请在公示期与科技成果转移转化办公室联系：
联系方式：吴婷 电话：0551-63601953；邮箱：wut14@ustc.edu.cn
科技成果转移转化办公室
2020.04.14